국내 연구진이 차세대 나노반도체 노광장비 원천기술로 주목받고 있는 '접촉식 플라즈모닉 노광기술'을 세계 최초로 개발해 화제가 되고 있다.

화제의 주인공은 한재원 연세대 교수의 연구팀. 29일 연세대에 따르면 한 교수팀은 접촉식 기법을 활용해 기존 근접장 노광기술보다 수백 배 빠른 기록 속도를 가진 노광기술 개발에 성공했다.

노광기술이란 빛을 이용해 기판에 나노 패턴을 구현하는 공정 기술을 의미하며 이번 성과로 바이오 칩·나노 구조 물질 등을 연구하는 나노기술 연구실에서도 노광기술 상용화가 가능하게 됐다.

연구 결과는 미 광학회에서 발간하는 '옵틱스 익스프레스' 10월호에 게재된 것은 물론 '네이처-포토닉스' 내년 1월호에도 소개됐다.

한 교수는 "이번 연구 결과를 통해 반도체 소자 생산의 핵심 기술인 차세대 반도체 노광장비의 원천기술을 확보, 첨단 반도체 생산 장비 산업의 국내 자립도를 획기적으로 향상시킬 수 있게 됐다"고 밝혔다.

한편 한 교수의 연구팀은 지난 2004년부터 '플라즈모닉 노광 관련 기술' 연구를 수행해왔으며 현재 미국(등록 1건·출원 4건), 한국(등록 6건·출원 3건), PCT(2건) 특허 등을 보유하고 있다.